| ■製品案内 |
| ●卓上蒸着装置《Mebius》 | |||
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成膜方法 | 抵抗加熱方式 切り替え式 AC10V 100A | |
| 基板サイズ | □50mm 1枚（多種サイズの設計対応可能） | ||
| チャンバ材質 | 本体材質 A5052 ベルジャ ガラス | ||
| チャンバベント | 導入圧力0.02MPa 以下 （大気開放） | ||
| 到達圧力 | 5.0×10-4Pa 以下 | ||
| 所要電源 | AC 1 φ 100V（50/60Hz） 15A | ||
| 重量 | 約30kg （卓上チャンバのみガラスベルジャ込み） | ||
| 所要面積 | 400W×400D×500H ※ガラスベルジャ装着時 | ||
| ●磁性体成膜作成装置 | |||
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成膜方法 | イオンビームスパッター方式 | |
| 基板サイズ | 3" | ||
| 成膜室1 | 基板回転・上下機構ターゲット／ロータリー方式・8ターゲット | ||
| 成膜室2 | 基板回転 | ||
| ロードロック室 | 3"基板 4枚搭載 トロッコレール搬送およびマグネット搬送 | ||
| 到達圧力 | 5×10-7Pa | ||
| 主ポンプ | クライオポンプ・ターボ分子ポンプ | ||
| 装置サイズ | 2500W×1500D×2300H | ||
| ●実験用薄膜作成装置 | |||
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成膜方法 | レーザーアブレーション方式 | |
| 基板サイズ | 4"基板×1枚 | ||
| 成膜室 | 基板回転および加熱機構 | ||
| 到達圧力 | 5×10-5Pa | ||
| 主ポンプ | ターボ分子ポンプ | ||
| 装置サイズ | 1800W×1000D×1800H | ||
| ●高真空押圧装置 | |||
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目的 | 高精度付押圧力を制御し均一な成型を行う | |
| 用途 | 金属およびガラスの成型 | ||
| 最大荷重 | 2000N | ||
| 制御方式 | 10φ×30L | ||
| 位置精度 | 2000±1uu | ||
| 試料加熱 | 最大300℃（PID精度） | ||
| 試料 | 試料の加熱、成型処理 | ||
| 到達圧力 | 5×10-4Pa | ||
| 主ポンプ | ターボ分子ポンプ | ||
| 装置サイズ | 1000W×800D×1500H | ||
| ●軟X線反射率計測装置 | |||
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目的 | 波長入＝13.5mm軟X線集光用多層膜反射窓の測定 | |
| 軟 X 線 発 生 部 |
チャンバーサイズ | SUS304 260φ×260H | |
| 排気系 | ロータリーポンプ | ||
| 到達圧力 | 5×10-4pa（分光部ターボで排気） | ||
| 内部治具 | 客先にて設計・制作 | ||
| 集 光 分 光 部 |
チャンバーサイズ | SUS304 650φ350H | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ | ||
| 到達圧力 | 2×10-4Pa | ||
| 内部治具 | 客先にて設計製作 | ||
| 測 定 部 |
チャンバーサイズ | SUS304 1000φ×730H | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ | ||
| 到達圧力 | 6×10-5Pa | ||
| 内部治具 | 客先にて設計・制作 | ||
| 装置サイズ | 3000W×1500D×1700H | ||
| ●次世代ディスプレー作製装置 | |||
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目的 | 材料の排気ならびに封止 | |
| 加熱方式 | シースヒータおよびカンタルヒータ MAX500℃ | ||
| 材料搬送 | トレイ搬送方式、搬送時チャンバーは水平方向に傾斜 | ||
| 到達圧力 | 1×10-5Pa | ||
| 主ポンプ | ターボ分子ポンプ | ||
| ガス導入系 | 3系統 | ||
| チャンバーサイズ | SUS304 600φ×1500H 水冷パイプ巻き | ||
| 装置サイズ | 2500W×1500D×2500H | ||
| ●MOCVD装置 | |||
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成膜方式 | ダウンフローシャワー方式 | |
| MO系 | 6系統 | ||
| 基板加熱 | 1000℃ | ||
| 基板 | 最大100φ 1枚 | ||
| 主ポンプ | ターボ分子ポンプ | ||
| 到達圧力 | 5×10-4Pa | ||
| 装置サイズ | 1500W×700D×1800H | ||
| ●高真空チャンバー | |||
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目的 | 各種実験用チャンバー | |
| チャンバーサイズ | SUS304 500W×500D×500H | ||
| 到達圧力 | 5×10-5Pa 以下可能 | ||
| 扉 | 前面および後面開閉扉 | ||
| 上部 | 上下駆動軸装備 | ||
| 装置サイズ | 800W×700D | ||
| ●真空加熱炉 | |||
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チャンバ形状 | 円筒型／横置きタイプ／胴体水冷ジャケットおよび扉 水冷巻 | |
| 均熱寸法 | W150mm×H150mm×L200mm | ||
| ヒーター | Mo製 | ||
| 最高加熱温度 | 1200℃ | ||
| 温度分布 | ±10℃以内（800℃時 □200のエリアのみ） | ||
| 昇温速度 | 10℃/min | ||
| 排気系 | ターボ分子ポンプ、ドライポンプ | ||
| 到達圧力 | 10-5Pa台（1×10-4Pa以下）※ワーク無挿入時の値 | ||
| ユーティリティ | 冷却水15L/min 電力1φ200V 60A以下 | ||