■装置写真


卓上型蒸着装置《Mebius》 NEW
成膜方法 抵抗加熱方式 切り替え式 AC100V 100A
基板サイズ □50mm 1枚(多種サイズの設計対応可能)
チャンバ材質 本体材質 A5052   ベルジャ 石英ガラス
チャンバベント 導入圧力 0.02MPa 以下(大気解放)
到達圧力 5.0×10-4Pa 以下
所要電源 AC 1φ 100V(50/60Hz) 15A
重量 約30kg (卓上チャンバのみガラスベルジャ込み))
所要面積 400W×400D×500H ※ガラスベルジャ装着時
製造範囲














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磁性体薄膜作成装置
成膜方法 イオンビームスパッター方式
基板サイズ 3”
成膜室1 基板回転・上下機構・ターゲット/ロータリー方式・8ターゲット
成膜室2 基板回転・
ロードロック室 3”基板 4枚搭載 トロッコレール搬送およびマグネット搬送
到達圧力 5×10-7Pa
主ポンプ クライオポンプ・ターボ分子ポンプ
装置サイズ 2500W×1500D×2300H
製造範囲















実験用薄膜作成装置
成膜方法 レーザーアブレーション方式
基板サイズ 4”基板×1枚
成膜室 基板回転および加熱機構
到達圧力 5×10-5Pa
主ポンプ ターボ分子ポンプ
装置サイズ 1800W×1000D×1800H
製造範囲














高真空押圧装置
目的 高精度付押圧力を制御し均一な成型を行う
用途 金属およびガラスの成型
最大荷重 2000N
制御方式 10φ×30L
位置精度 2000±1uu
試料加熱 最大300℃(PID精度)
試料 試料の加熱、成形処理
到達圧力 5×10-4Pa
主ポンプ ターボ分子ポンプ
装置サイズ 1000W×800D×1500H
製造範囲














軟X線反射率計測装置

波長入=13.5mm軟X線集光用多層膜反射窓の反射率の測定

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チャンバー
サイズ
SUS304 260φ×260H
排気系 ロータリーポンプ
到達圧力 5×10-4Pa(分光部ターボで排気)
内部治具 客先にて設計・製作




チャンバー
サイズ
SUS304 650φ350H
排気系 ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
到達圧力 2×10-4Pa
内部治具 客先にて設計・製作


チャンバー
サイズ
SUS304 1000φ×730H
排気系 ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
到達圧力 6×10-5Pa
内部治具 客先にて設計製作
装置サイズ 3000W×1500×1700H
製造範囲













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次世代ディスプレー作成装置
目的 材料の排気ならびに封止
加熱方式 シースヒータおよびカンタルヒータ MAX500℃
材料搬送 トレイ搬送方式、搬送時チャンバーは水平方向に傾斜
到達圧力 1×10-5Pa
主ポンプ ターボ分子ポンプ
ガス導入系 3系統
チャンバーサイズ SUS304 600Φ×1500H 水冷パイプ巻き
装置サイズ 2500W×1500D×2500H
製造範囲













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MOCVD装置
成膜方式 ダウンフローシャワー方式
MO系 6系統
基板加熱 1000℃
基板 最大100φ 1枚
主ポンプ ターボ分子ポンプ
到達圧力 5×10-4Pa
装置サイズ 1500W×700D×1800H
製造範囲














高真空チャンバー
目的 各種実験用チャンバー
チャンバー
サイズ
SUS304 500W×500D×500H
到達圧力 5×10-5Pa 以下可能
全面および後面開閉扉
上部 上下駆動軸装備
装置サイズ 800W×700D
製造範囲













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